تتنافس الآن كثير من شركات إنتاج الإلكترونيات العالمية في البحث والتجريب لابتكار وسائل وتقنيات متقدمة تعتمد على توظيف تكنولوجيا النانو في الطباعة الكيميائية على الأسطح فائقة الدقة، مما يعرف باسم الطباعة النانوية والتي تُستخدم فيها طريقتان هما:

• الطباعة بالقلم المغموس (Dip Pen Nanolithography (DN
• الطباعة بالقلم المائل الحراري (Thermal Dip Pen Nanolithography (tDPN

وتعتمد طريقة الطباعة بالقلم المائل – على البارد أو الساخن – على توظيف طرف مسبار (مجس) Probe Tip ميكروسكوب القوة الذرية Atomic Force Microscope في بناء الهياكل النانوية الخاصة بالشرائح الإلكترونية حيث يُطلى المسبار بغلاف من الحبر السائل الذي يتدفق عند ملامسة طرف المسبار لسطح رقائق السيليكون مكونا الشكل المراد الحصول عليه. وتوفر هذه التقنية عالية الدقة والمعروفة باسم الكتابة المباشرة Direct–write Technique القدرة على نفث الأحبار الجزيئية Molecular Inks المحتوية على جزيئات المواد النانوية المرادة طباعتها على أسطح الركائز بالشكل المراد الحصول عليه.